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대학 국가전략기술 정보
기술도입 신청
기술도입 상담 절차
상담이 접수되면, 대학이 대상 기술을 선별하여 기업에 정보 제공 후, 기술도입 상담을 진행합니다.
① 상담신청(기업)
② 수요공유(전국 대학)
③ 기술정보 제공(대학→기업)
④ 기업-대학 상담
한국연구재단 기술사업화센터 서용태 변리사 Email. ytseo@nrf.re.kr Tel. 042-869-6409
선택된 기술
넓은 머리를 갖는 게이트의 제조방법
동국대학교
10-2004-0077420
존속기간만료
H10D 30/60
수요기술 정보
수요기술명
전략기술 분류1
전략기술 분류1 선택
반도체·디스플레이 (A)
이차전지 (B)
첨단모빌리티 (C)
차세대 원자력 (D)
첨단 바이오 (E)
우주항공·해양 (F)
수소 (G)
사이버보안 (H)
인공지능 (I)
차세대 통신 (J)
첨단로봇·제조 (K)
양자 (L)
기타 (M)
전략기술 분류2
전략기술 분류2 선택
고집적, 저항기반 메모리 (A01)
고성능, 저전력 인공지능 반도체 (A02)
전력반도체 (A03)
반도체 첨단패키징 (A04)
차세대 고성능센서 (A05)
프리폼 디스플레이 (A06)
무기발광 디스플레이 (A07)
반도체, 디스플레이 소재, 부품, 장비 (A08)
반도체·디스플레이 기타 (A99)
활용계획
수요내용
【 도입 희망 기술 정보 】 · 기술명: 넓은 머리를 갖는 게이트의 제조방법 · 출원기관: 동국대학교 · 출원번호: 10-2004-0077420 · 출원일: 2004-09-24 · 법적상태: 존속기간만료 · IPC 분류: H10D 30/60 【 기술 요약 】 본 발명은 넓은 머리를 갖는 게이트의 제조방법에 관한 것으로, 금속-반도체 전계효과 트랜지스터(metal semiconductor field effect transistor: MESFET), 고전자 이동도 트랜지스터(high electron mobility transistor: HEMT) 등의 초고주파 및 밀리미터파용 반도체 소자 제조에 있어서, 게이트 다리 패턴용 유전체에 게이트 머리를 지지하는 지지용 축을 형성하여 게이트 다리를 중심으로 양쪽으로 게이트 머리를 받침으로써 게이트 머리가 지지되도록 한 넓은 머리를 갖는 게이트의 제조방법이다.본 발명에 따른 지지용 축을 사용한 중앙에 칩(10)이 넓은 머리를 갖는 게이트의 제조방법에 의하면, 유전체를 사용한 미세한 크기의 게이트 길이를 가지면서도 넓은 게이트 머리를 갖게 하여 게이트의 단면적을 크게 함으로써 기생 정전 용량에 의한 반도체 소자 특성 저하를 방지할 수 있는 효과가 있으며, 또한 종래의 게이트 제조 방법에서 패턴만 추가하 【 도입 계획 및 활용 목적 】 (도입 후 활용 계획을 자세히 입력해주세요.)
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