NRF-TCC : 한국연구재단 기술사업화센터

요약 흡착공정 및 탈착공정이 반복 수행되는 축전식 탈염(CDI) 정수처리시, 탈착모드의 이온 탈착에만 사용되는 순환수를 공급할 수 있는 순환탱크를 별도 구비하도록 축전식 탈염 정수처리 시스템을 구현하되, 구연산 용액을 이용하여 용해도가 낮은 중금속이 CDI 셀에서 석출되는 것을 방지함과 동시에 높은 농도로 순환탱크 내에 농축시킬 수 있는, 탈착공정용 순환탱크 내 구연산 순환수를 이용한 축전식 탈염 정수처리 시스템이 제공된다.

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전략기술 분류 첨단로봇·제조
K1
특허 강도 지표

8

청구항

0

인용

0

패밀리
출원번호 10-2025-0165828 KIPRIS
출원일 2025-11-06
공개번호 10-2025-0163846
공개일 2025-11-21
등록번호
등록일
현재 상태 공개
IPC 코드 C02F 1/469; B01D 61/42; C02F 1/00
대리인 송세근
심사관
원문 보기 KIPRIS 원문
AI 요약서