• 요약 본 발명은 인가 전압에 따라 유전율이 변하는 강유전체 박막을 이용한 초고주파 가변 소자에 관한 것으로, 인가 전압에 따라 위상 속도를 변화시키면서 특성 임피던스의 변화는 감소시킬 수 있는 분포 정수형 아날로그 위상 변위기 및 그 제조방법을 개시한다. 개시된 본 발명의 분포 정수형 아날로그 위상 변위기는, 기판 상에 라인 형태로 연장되는 CPW(coplanar waveguide)가 배치되어 있고, 상기 CPW에 주기적으로 다수의 강유전체 캐패시터가 로딩되어 있다. 강유전체 캐패시터는 패턴 형태의 강유전체 박막을 구비하여, 인가 전압의 영향을 받는 강유전체 박막을 캐패시터 면적 내부로 국한시킨다. 이에 따라, 인가 전압의 변화에 따른 위상 속도의 변화는 유지하면서 원치 않는 CPW의 특성 변화를 방지하고 박막 유전 손실을 줄임으로써 위상 변위기의 반사 손실 및 삽입 손실 특성을 향상시킬 수 있다. 강유전체 박막, 분포 정수형 아날로그 위상 변위기, CPW(coplanar waveqgui
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  • 전략기술 분류 차세대 통신
    J1

  • 특허 강도 지표
    11
    청구항
    5
    인용
    2
    패밀리
    9
    권리이전

  • 출원번호 10-2003-0056847 KIPRIS
  • 출원일 2003-08-18
  • 공개번호 10-2005-0019211
  • 공개일 2005-03-03
  • 공고번호
  • 공고일 2006-01-26
  • 등록번호 10-0546-7590000
  • 등록일 2006-01-19

  • 현재 상태 존속기간만료

  • IPC 코드 H01Q 21/00

  • 대리인 이해영; 리앤목특허법인
  • 심사관 이충근

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