NRF-TCC : 한국연구재단 기술사업화센터

기술 세부내용 파우더를 대기 중 또는 진공 중으로 분사할 수 있으며, 프린팅 공정을 이용한 구조물 제작에도 활용 가능

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지재권 구분 특허
전략기술 분류 기타
특허 출원번호 10-2021-0021256 KIPRIS
IPC 코드 F15B15/14
특허 출원일
특허 등록번호 10-2274244
TRL 단계 5단계(확정된 소재/부품/시스템시작품 제작 및 성능 평가)
연구실 홈페이지 https://sites.google.com/site/cnuwgshin/