NRF-TCC : 한국연구재단 기술사업화센터

기술 세부내용 본 발명은 홀로그램 기록매체에 관한 것으로, 광반응성 고분자 조성물을 이용하여 3차원 패턴 구조를 갖는 패턴 구조체를 제조하는 방법 및 이에 따라 제조된 패턴 구조체에 관한 것입니다. 본 발명에 따른 패턴 구조체는 부피 점위 내에서 3차원적으로 물성의 공간적 변화가 형성된 패턴 구조체를 용이하게 제조할 수 있으며, 회절 효율이 향상되는 효과가 있습니다. 현재 심사 계류 중입니다.

첨부 파일
9.[공개공보] 광반응성 고분자 조성물을 이용하여 3차원 패턴 구조를 갖는 패턴 구조체를 제조하는 장치 및 방법 그리고 이에 따라 제조된 패턴 구조체.pdf

9.[SMK] 광반응성 고분자 조성물을 이용하여 3차원 패턴 구조를 갖는 패턴 구조체를 제조하는 장치 및 방법 그리고 이에 따라 제조된 패턴 구조체.pdf

지재권 구분 특허
전략기술 분류 반도체, 디스플레이 소재, 부품, 장비
특허 출원번호 10-2023-0158265 KIPRIS
IPC 코드 G03H1/04
특허 출원일
특허 등록번호
TRL 단계 3단계(실험실 규모의 기본성능 검증)
연구실 홈페이지 https://seungwoo.korea.ac.kr/