- Home
- 기술이전·사업화 정보
- 기술이전·사업화 대상 기술
가스 센서, 이를 포함하는 가스 분석 장치 및 가스 센서의 제조 방법
- 기술 세부내용 본 발명은 가스 감응층; 및 상기 가스 감응층 상에 배치된 촉매층; 을 포함하고, 상기 촉매층은 로듐(Rh)를 포함하는 가스 센서를 개시한다.
- 첨부 파일
- 지재권 구분 특허
- 전략기술 분류 기타
- 특허 출원번호 10-2020-0181164 KIPRIS
- IPC 코드
- 특허 출원일
- 특허 등록번호 10-2628275
- TRL 단계
- 연구실 홈페이지
- 기술 담당자 정보
- 고려대학교
- 김수아
- 변리사
- sooakim@korea.ac.kr
- 02-3290-5835
Copyright ⓒ 한국연구재단 기술사업화센터 (NRF-TCC) All rights reserved.