NRF-TCC : 한국연구재단 기술사업화센터

기술 세부내용 고종횡비 컨택홀 식각 공정에 적용 가능한 적응형 펄스 공정 장치개발 플라즈마를 이용한 식각 공정 중 발생되는 부산물이 컨택홀 내에서 빠져나오지 못함으로 인해서 컨택홀 식각 중단 현상이 발생 부산물에 의한 광 파장의 세기를 근거로 컨택홀의 식각률을 구함 식각률을 이용하여 식각 효율이 최대가 되도록 튜티 사이클, 온오프 주기, 펄스 주파수 등을 제어하여 고종횡비 컨택홀 식각 중단 현상 방지

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44. 고종횡비 컨택홀 식각 공정에 적용 가능한 적응형 펄스 공정 장치 및 방법 이를 구현하기 위한 프로그램이 저장된 기록매체 및 이를 구현하기 위해 매체에 저장된 컴퓨터프로그램.pdf

지재권 구분 특허
전략기술 분류 기타
특허 출원번호 10-2021-0071078 KIPRIS
IPC 코드 h01j37/32
특허 출원일
특허 등록번호 10-2587031
TRL 단계 3단계(실험실 규모의 기본성능 검증)
연구실 홈페이지 http://apple.cnu.ac.kr/