포토리소그래피용 언더레이어 화합물, 이를 이용하여 형성된 다층 구조 및 이를 이용한 반도체 소자의 제조방법
인하대학교 산학협력단
이진균, 구예진, 김가영
124
요약포토레지스트막의 해상도 및 감도를 향상시킬 수 있고 포토레지스트 패턴의 붕괴를 억제할 수 있으며 내식각성이 증가된 언더레이어 화합물이 제공된다. 상기 언더레이어 화합물은 화학식1로 표시되는 반복단위를 포함하는 교대 공중합체, 또는 짝음이온을 갖는 알킬화 주석산화물 나노클러스터를 포함한다.
대표 청구항화학식1로 표시되는 반복단위를 포함하는 교대 공중합체, 또는 짝음이온을 갖는 알킬화 주석산화물 나노클러스터를 포함하되, [화학식1] 상기 화학식1에서, R1은 탄소수 1 내지 18의 알킬기이고, R2, R3, R4, 및 R5는 각각 독립적으로 수소, 중수소 또는 탄소수 1 내지 3의 알킬기이고, A는 아이오딘 또는 알킬기를 갖는 주석이고, n은 2 내지 10,000의 정수이고, 상기 알킬화 주석산화물 나노클러스터는 주석산화물을 포함하는 코어 구조, 및 상기 코어 구조의 주석 원소에 결합된 탄소수 1 내지 18의 알킬기를 포함하고, 상기 짝음이온은 알킬 벤젠 설포네이트 음이온인 포토리소그래피용 언더레이어 화합물.
