• 요약 질소면 질화물 반도체의 제조방법 및 이로부터 제조된 질소면 질화물 반도체 소자를 개시한다. 질소면 질화물 반도체의 제조방법은 기판을 준비하는 단계; 및 상기 기판 상에 펄스 성장 모드를 이용하여 N-분극(N-polar) 질화물 반도체층을 형성하는 단계; 를 포함하고, 상기 N-분극 질화물 반도체층을 형성하는 단계는 기상증착 공정에서 V족 원소 전구체, 3족 원소 전구체 또는 이 둘 모두를 펄스 모드로 공급하는 것일 수 있다.
  • 대표 청구항 기판을 준비하는 단계; 및 상기 기판 상에 펄스 성장 모드를 이용하여 N-분극(N-polar) 질화물 반도체층을 형성하는 단계; 를 포함하고, 상기 N-분극 질화물 반도체층을 형성하는 단계는 기상증착 공정에서 V족 원소 전구체, 3족 원소 전구체 또는 이 둘 모두를 펄스 모드로 공급하는 것인, 질소면 질화물 반도체의 제조방법.
  • 대표 도면
  • 전략기술 분류 반도체·디스플레이
    반도체 첨단패키징

  • 출원번호 10-2022-0146114 KIPRIS
  • 출원일 2022-11-04
  • 공개번호 10-2024-0064289
  • 공개일 2024-05-13
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  • 현재 상태 심사중
  • 현재 권리자
  • IPC 코드 H01L-021/02, H01L-029/778, H01L-029/20