요약본 발명은 반도체 노광 공정용 세라믹 조성물 및 이를 이용한 반도체 노광 공정용 부재에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 저반사율, 낮은 절연 저항 및 고강도를 갖는 반도체 노광 공정용 세라믹 조성물 및 이를 이용한 반도체 노광 공정용 부재에 관한 것이다. 본 발명에 따른 반도체 노광 공정용 세라믹 조성물은 Al2O3 81 내지 89 wt%, MnO2 2.4 내지 2.8wt%, Co3O4 3.9 내지 4.6wt%, Fe2O3 2.6 내지 7.1wt%, TiO2 1.2 내지 5.9wt%, ZnO 0.3 내지 0.4wt%를 포함한다.
대표 청구항Al2O3, MnO2, Co3O4, Fe2O3, TiO2 및 ZnO을 포함하는 것을 특징으로 하는반도체 노광 공정용 세라믹 조성물.
