요약본 발명의 목적은 대면적으로 유전체 장벽 방전 플라즈마 처리를 할 수 있고, 피처리물이 있는 곳에 직접적으로 플라즈마 처리를 할 수 있는 새로운 구성의 유전체 장벽 방전 플라즈마 소스를 제공하려는 것이다. 상기 목적에 따라 본 발명은 두께와 부피를 갖는 유전체 기판 내부에 z축 상으로 서로 간격을 두고 x축 상으로 연장되어 유전체 기판 내부에 삽입 배열된 x, y 전극쌍을 하나 이상 구비하고, 상기 전극 쌍 근처에 z축 상으로 유전체 기판을 관통하는 기체주입구를 하나 이상 구비한 유전체장벽방전 플라즈마 어레이 소스를 제공한다.
