NRF-TCC : 한국연구재단 기술사업화센터

요약 플라즈마 식각 방법이 개시된다. 플라즈마 식각 방법은 액상의 헵타플루오로이소프로필 메틸 에테르(HFE-347mmy)를 증기화시키는 제1 단계, 상기 증기화된 HFE-347mmy와 산소 가스 및 아르곤 가스를 포함하는 방전가스를 식각 대상이 배치된 플라즈마 챔버에 공급하는 제2 단계, 및 상기 방전가스를 방전시켜 플라즈마를 생성하고, 이를 이용하여 상기 식각 대상을 플라즈마 식각하는 제3 단계를 포함할 수 있다.

대표 도면

R&D 프로젝트 개인기초연구(과기정통부)(R＆D)

심판 위험 분석 심판 이력 없음

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전략기술 분류 반도체·디스플레이
D1
특허 강도 지표

7

청구항

17

인용

1

패밀리

4

권리이전
출원번호 10-2023-0030171 KIPRIS
출원일 2023-03-07
공개번호
공개일
등록번호 10-2697-8650000
등록일 2024-08-19
현재 상태 등록료납부
IPC 코드 H10P 50/28; H10P 50/20; C09K 13/00
대리인 박종수; 차상윤; 정지향; 남건필
심사관 최상원
원문 보기 KIPRIS 원문