• 요약 플라즈마 반응장치는 셀 구조체와 복수의 유전체 및 복수의 고전압 전극을 포함한다. 셀 구조체는 진공관에 연결 설치된 중심관과, 중심관을 둘러싸는 반응 챔버와, 반응 챔버의 내부에 위치하여 반응 챔버의 내부 공간을 중심관의 둘레 방향을 따라 복수의 단위 셀로 구획하는 복수의 격벽을 포함하며, 진공관과 함께 접지된다. 복수의 유전체는 관형으로 이루어지며, 복수의 단위 셀 각각의 내부에서 진공관과 나란하게 위치한다. 복수의 고전압 전극은 복수의 유전체 각각의 내측에 위치하고, 전원으로부터 구동 전압을 인가받아 복수의 단위 셀에 플라즈마를 생성한다.
  • 대표 도면
  • R&D 프로젝트 기본사업(II)
  • 심판 위험 분석 심판 이력 없음
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  • 전략기술 분류 반도체·디스플레이
    B1

  • 특허 강도 지표
    17
    청구항
    5
    인용
    0
    패밀리
    5
    권리이전

  • 출원번호 10-2023-0093323 KIPRIS
  • 출원일 2023-07-18
  • 공개번호 10-2025-0013004
  • 공개일 2025-01-31
  • 등록번호 10-2881-0660000
  • 등록일 2025-10-30

  • 현재 상태 출원공개

  • IPC 코드 H01J 37/32

  • 대리인 팬코리아특허법인
  • 심사관 홍영욱

  • 원문 보기 KIPRIS 원문