요약플라즈마 프로세싱 시스템은 기판 지지부를 포함하는 프로세싱 챔버를 포함한다. 플라즈마 생성기는 기판 지지부 상에 배치된 (arrange) 기판을 처리하기 위해 프로세싱 챔버 내에서 플라즈마를 선택적으로 생성하도록 구성된다. 이미터 (emitter) 는 프로세싱 챔버 내 플라즈마를 통해 제 1 테라헤르츠파들을 송신하도록 (transmit) 구성된다. 디텍터 (detector) 는 프로세싱 챔버 내에서 플라즈마를 통해 송신된 제 1 테라헤르츠파들에 대응하는 제 2 테라헤르츠파들을 수신하도록 구성된다.
