요약본 발명의 감광가역성 포토레지스트 조성물은 자체감광가역성 특성을 가지는 수용성 포토레지스트 조성물이며, 별도의 광개시제 및 감광성 첨가제없이 OLED 소자 제조 시 하부층을 손상시키지 않고 포토리소그래피 공정에 적용할 수 있어, 미세패턴의 형성이 가능하여 포토리소그래피를 활용한 고성능, 고해상도 OELD를 제조할 수 있다. 유해한 유기물질 대신 물을 포함하며 패턴의 수정이 용이함은 물론, 원료 회수가 가능하여 폐유기물을 현저히 감소시킬 수 있다는 점에서 종래 감광성 포토레지스트 조성물에서는 구현할 수 없는 친환경성을 가질 수 있다.
