NRF-TCC : 한국연구재단 기술사업화센터

요약 본 발명은 클러스터 화합물 또는 이의 염 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물에 관한 것으로, 결합과 해리가 용이한 표면 분자를 도입하여 클러스터 화합물의 화학적 안정성을 확보하면서도 현저히 향상된 EUV 민감도를 가져, 우수한 민감도로 포토레지스트 패턴을 형성할 수 있는 클러스터 화합물 또는 이의 염을 제공한다.

대표 도면

R&D 프로젝트 소재부품기술개발-이종기술융합형; 국가반도체연구실지원핵심기술개발사업(R＆D)

심판 위험 분석 심판 이력 없음

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전략기술 분류 수소
A1
특허 강도 지표

17

청구항

8

인용

0

패밀리
출원번호 10-2023-0181703 KIPRIS
출원일 2023-12-14
공개번호 10-2024-0095046
공개일 2024-06-25
등록번호
등록일
현재 상태 출원공개
IPC 코드 C07F 7/22; G03F 7/004; G03F 7/038; G03F 7/20; H10P 76/00; H10D 30/67; H10D 48/00
대리인 특허법인플러스
심사관
원문 보기 KIPRIS 원문