NRF-TCC : 한국연구재단 기술사업화센터

요약 본 발명에 따르면, 고온 열처리 과정을 필요로 하지 않고 스퍼터링 방식으로 공정 절차를 줄임과 동시에 공정변수의 조절을 통해 결정 내 결함 및 화학양론을 조절하여 우수한 압전 특성을 확보할 수 있다.

대표 도면

R&D 프로젝트 개인기초연구(과기정통부)

심판 위험 분석 심판 이력 없음

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인용문헌
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전략기술 분류 사이버보안
A1
특허 강도 지표

10

청구항

10

인용

0

패밀리

4

권리이전
출원번호 10-2024-0055652 KIPRIS
출원일 2024-04-25
공개번호
공개일
등록번호 10-2858-1520000
등록일 2025-09-05
현재 상태 등록
IPC 코드 H10N 30/076; H10N 30/853; H10N 30/30
대리인 특허법인(유한)아이시스
심사관 조성찬
원문 보기 KIPRIS 원문