NRF-TCC : 한국연구재단 기술사업화센터

요약 산화제, 산 및 선택적 식각 억제제를 포함하고, 상기 선택적 식각 억제제는, 화학식 1로 표시된 제1반복 단위 및 화학식 2로 표시된 제2반복 단위 중 적어도 하나를 포함한 폴리머를 포함한, 조성물, 이를 이용한 금속-함유막 처리 방법 및 이를 이용한 반도체 소자 제조 방법이 제공된다. 화학식 1 및 2에 대한 설명은 본 명세서에 기재된 바를 참조한다.

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심판 위험 분석 심판 이력 없음

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전략기술 분류 반도체·디스플레이
A1
특허 강도 지표

20

청구항

0

인용

0

패밀리
출원번호 10-2025-0062817 KIPRIS
출원일 2025-05-14
공개번호 10-2025-0165209
공개일 2025-11-25
등록번호
등록일
현재 상태 공개
IPC 코드 C09K 13/06; C23F 1/16; H10P 50/28
대리인 리앤목특허법인
심사관
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