- 요약 본 개시는 클러스터 화합물 또는 이의 염 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물에 관한 것으로, 일 구현예에 따른 클러스터 화합물은 클러스터 간 수소 결합에 의해 박막의 밀도가 높아 생성된 2차 전자의 확산이 억제되고, 고리 구조를 가짐으로써 식각 내성 및 기계적 강도가 우수하므로 현저히 향상된 EUV 민감도를 갖는 포토레지스트 패턴을 형성할 수 있다.
- 대표 청구항
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대표 도면
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전략기술 분류
반도체·디스플레이
고성능, 저전력 인공지능 반도체 - 출원번호 10-2025-0029922 KIPRIS
- 출원일 2025-03-07
- 공개번호
- 공개일 2025-11-20
- 등록번호
- 등록일 2025-11-14
- 우선권 번호 1028882630000
- 우선권 국가
- 우선권 주장일
- 현재 상태 등록
- 현재 권리자
- IPC 코드 G03F 7/004|C07F 7/22|G03F 7/20|G03F 7/038|H01L 21/027
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