- 요약 본 개시는 식각 장치를 제어하는 방법 및 그것을 수행하는 전자 장치에 관한 것으로, 본 개시의 실시 예에 따른 다단 레이어를 포함하는 적층형 구조체로부터 계단형 구조체를 형성하기 위하여 식각 공정을 수행하는 식각 장치 제어 방법은 상기 적층형 구조체에 대한 적층 구조 정보를 확인하는 단계, 상기 적층 구조 정보에 포함된 상기 적층형 구조체의 단 수(number of layer)를 기반으로 상기 적층형 구조체에 대응하는 적어도 하나의 레벨 연산 결과를 도출하는 단계, 상기 적어도 하나의 레벨 연산 결과에 대응하는 공정 순서 정보 중 어느 하나를 선택하는 단계 및 상기 선택된 공정 순서 정보를 기반으로 식각 장치를 제어하는 단계를 포함할 수 있다.
- 대표 청구항
-
대표 도면
-
전략기술 분류
반도체·디스플레이
고성능, 저전력 인공지능 반도체 - 출원번호 10-2025-0033446 KIPRIS
- 출원일 2025-03-14
- 공개번호
- 공개일 2025-11-11
- 등록번호
- 등록일 2025-11-07
- 우선권 번호 1028852120000
- 우선권 국가
- 우선권 주장일
- 현재 상태 등록
- 현재 권리자
- IPC 코드 H01L 21/67|H01L 21/66|H10B 41/27|H10B 43/27
NRF-TCC AI 요약 뉴스레터 구독
NRF-TCC AI가 요약해주는 최신 기술이전 동향, 특허 정보, 수익화 프로그램 소식을
매주 월요일 10시에 이메일로 받아보세요.
Copyright ⓒ 한국연구재단 기술사업화센터 (NRF-TCC) All rights reserved.