요약본 발명의 일 실시예에 따른 칼라 필터 제조 방법은 기판(110) 상에 광추출층(120), 상기 광추출층(120) 상에 포토레지스트막(130)를 차례로 형성하고 상기 포토레지스트막(130)을 패터닝하여 주기적인 포토레지스트 패턴(131)을 포함하는 제1 포토레지스트 층(130a)을 형성하는 단계; 플라즈마 식각 공정을 사용하여 상기 제1 포토레지스트층(130a)의 표면 모폴로지를 변화시키어 랜덤 요철 구조(132)를 제2 포토레지스트층(130b)에 형성하고 상기 주기적인 포토레지스트 패턴(131)을 식각 마스크로 플라즈마 식각 공정에 의하여 주기적인 광추출 패턴(121)을 구비한 제1 광추출층(120a)을 제공하는 단계; 상기 제2 포토레지스트층(130b)의 상기 랜덤 요철 구조(132)를 마스크로 사용하여 상기 제1 광추출층(120a)을 과식각(over-etch)하여 랜덤 패턴(122)을 형성한 제2 광추출층(120b)을 제공하는 단계; 및 상기 제2 포토레지스트층(130b)을 제
