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고효율 이미지 측정을 위한 다층 신틸레이터 박막 및 이의 제조방법
- 기술 세부내용 본 발명은 고효율 이미지 측정을 위한 다층 신틸레이터 박막 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 다층 신틸레이터 박막은 제1 신틸레이터층과 제2 신틸레이터층으로서 각 층의 물질이 서로 흡수하는 X선의 에너지 영역 및 흡수 파장 영역이 다르며, 상기 제1 신틸레이터층과 제2 신틸레이터층이 분리막 또는 반사투과층에 의해 분리되어 있으므로, 서로에게 간섭을 일으키지 않아 고효율의 독립이미지를 선명하게 형성할 수 있다. 따라서, 제1 신틸레이터층 및 제2 신틸레이터층에서 흡수된 광으로 인해 여기 후 빛을 방출하고, 이 빛들을 이용하여 독립적인 제1 이미지 및 제2 이미지를 형성하여, X선 촬영시 80 kV를 초과하는 고에너지 영역에서는 단단한 뼈의 이미지를 독립적으로 얻을 수 있고, 80 kV 이하의 저에너지 영역에서는 연한 피부 및 살 등의 이미지를 독립적으로 얻음으로써, 이들을 구별할 수 있는 고효율의 이미지를 형성할 수 있다.
- 첨부 파일
- 지재권 구분 특허
- 전략기술 분류 고집적, 저항기반 메모리
- 특허 출원번호 10-2021-0113326 KIPRIS
- IPC 코드 g01t1/164
- 특허 출원일
- 특허 등록번호 10-2449413
- TRL 단계 2단계(실용목적의 아이디어, 특허 등 개념정립)
- 연구실 홈페이지
- 기술 담당자 정보
- 동국대학교
- 이혜영
- 기술정보담당관
- hyera79@dongguk.edu
- 02-2260-3873

































































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